一、设备核心用途

专为氢气 + 氮气按固定比例连续、稳定混气，输出氢氮混合气，用于：

• 半导体 / 光伏 / LED 还原保护气氛
• 金属光亮退火、钎焊
• 浮法玻璃锡槽保护气
• 粉末冶金、磁性材料烧结
• 实验室 / 生产线精密配气

二、典型技术指标

• 配比范围：
  H₂ 0–10%（常用 2%/5%/10%），余量 N₂
  合成氨工况可做到 H₂:N₂ = 3:1
• 配比精度：±0.1% FS ～ ±1% FS（高精度型）
• 流量范围：1–1000 Nm³/h 可定制
• 控制方式：PLC + 质量流量控制器（MFC）
• 输出压力：0.1–0.8 MPa 可调
• 报警功能：超温、超压、欠压、氢浓度超限、紧急停机

三、系统结构（标准配比柜）

1. 进气单元
   氮气入口、氢气入口、过滤器、减压阀
2. 计量混气单元
   高精度 MFC 分别控制 H₂、N₂ 流量
3. 混气单元
   静态混合器，保证均匀无分层
4. 分析监测单元
   在线氢分析仪 / 氧分析仪，实时显示浓度
5. 调节与稳压单元
   背压阀、稳压阀，保证出口压力稳定
6. 安全单元
   氢气泄漏检测、紧急切断阀、防爆、放空

四、为什么用配比柜而不是简单混气

• 传统汇流排混气：精度差、波动大、不安全
• 配比柜：
• 连续稳定，不受气源压力波动影响
• 可远程 / 自动调节配比
• 带联锁保护，适合易燃易爆氢系统
• 满足高纯工艺对气氛一致性要求

五、适用场景关键词

• 氮氢保护气氛炉
• 退火炉、钎焊炉
• 光伏电池 / 硅片工艺
• 电子元器件封装
• 化工催化、氨合成前配气

如果你是要选型 / 报价 / 技术参数表，我可以按你需要的：

• 氢气浓度、总流量
• 压力、纯度要求
• 防爆 / 非防爆、是否需要在线分析